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單原子修飾可顯著提高納米材料的性能,目標(biāo)除草劑降解速率提高四倍
[人民政協(xié)報(bào)] 除草劑有了高效降解新技術(shù)
發(fā)布時(shí)間:2022-07-14
|來(lái)源: 人民政協(xié)報(bào) 2022年7月14日 |作者:高志民
近日,中國(guó)農(nóng)業(yè)科學(xué)院煙草研究所聯(lián)合國(guó)內(nèi)外院校,基于單原子修飾納米材料,利用可見光催化降解技術(shù),有效減輕了磺酰脲類除草劑對(duì)后茬敏感作物的藥害影響。
磺酰脲類除草劑是目前全球使用量最大的除草劑種類之一,被廣泛應(yīng)用于闊葉雜草及禾本科雜草防治。近年來(lái)研究發(fā)現(xiàn),磺酰脲類除草劑對(duì)煙草、玉米、大豆等作物產(chǎn)生的后茬藥害問題嚴(yán)重,但目前仍缺乏高效降解技術(shù)。
該研究基于可見光催化技術(shù),開展了磺酰脲類除草劑的降解規(guī)律、降解機(jī)理及毒性評(píng)價(jià)等系列試驗(yàn)。結(jié)果表明,利用氮化碳納米材料可同步實(shí)現(xiàn)多種磺酰脲類除草劑的可見光催化降解,通過單原子修飾可顯著提高納米材料的性能,目標(biāo)除草劑降解速率提高四倍,結(jié)合理論計(jì)算對(duì)機(jī)理進(jìn)行了深入闡釋,進(jìn)一步證實(shí)該技術(shù)可有效減輕磺酰脲類除草劑對(duì)后茬敏感作物的藥害作用。
該研究得到國(guó)家自然科學(xué)基金等項(xiàng)目的資助。相關(guān)研究成果發(fā)表在《化學(xué)工程雜志(Chemical Engineering Journal)》上。
(單位: 中國(guó)農(nóng)業(yè)科學(xué)院煙草研究所)
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